イベント情報

イベントアーカイブ

ゲート絶縁膜国際ワークショップ2003要申込

高誘電体ゲート絶縁膜技術を専門的に議論する国際ワークショップであり、成膜、加工、洗浄など要素技術からトランジスタの課題まで幅広い議論を通じてこの分野の研究の活性化を図る。

開催日時
2003年11月6日(木)~7日(金)10:00~17:00
開催場所
日本科学未来館 7階 みらいCANホール
料金
一般 27,000円
学生 12,000円
レセプションのみ 6,000円
申込方法
IWGI2003ウェブサイトにて受け付け
定員
約250名
主催者
社団法人応用物理学会、応用物理学会薄膜表面物理分科会、応用物理学会シリコンテクノロジー分科会
共催者
IEEE-EDS、International SEMATECK
このエントリーをはてなブックマークに追加
Twitterでリンクをあなたのフォロワーに共有する

一覧に戻る

イベント

会員向けイベント

クラブMiraikanに入会すると、会員向けイベントへお申し込みできます。